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    產(chǎn)品與服務

    • 鉬靶材
    • 鉬靶材

    鉬靶材

    鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質(zhì)量金屬材料,由于鉬的高熔點和熱穩(wěn)定性,鉬靶材在高溫濺射工藝中表現(xiàn)優(yōu)質(zhì),具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學純度以確保薄膜沉積過程中的高質(zhì)量和可靠性;還擁有均勻的微觀結(jié)構(gòu),有助于產(chǎn)生均勻、穩(wěn)定的薄膜。鉬靶材被廣泛應用于半導體制造中,用于制備導電層、光學薄膜和其他功能性薄膜。在光學領(lǐng)域,鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學涂層和其他光學元件。

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    產(chǎn)品詳情

    品名 

    鉬靶材 

    成分

    Mo

    外觀

    銀白

    純度(%)

    ≥99.95%

    相對密度

    ≥99.9%

    規(guī)格(mm)

    ?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18

    雜質(zhì)≤ (ppm)

    Fe

    Al

    Si

    Ni

    Cu

    Cr

    Sum

    100

    50

    50

    50

    50

    50

    500